Spin coater per applicazioni di laboratorio

Gli spin coater sono strumenti ideali per la preparazione di film sottili e ultra-sottili per applicazioni diverse, in particolare per analisi spettroscopiche e morfologiche.

Features
Ampia gamma di spin coater differenti
Velocità di rotazione fino a 13.500 rpm
Ritenzione del campione di tipo passiva e attiva
Rampe programmabili integrate o controllo remoto tramite software esterni
Ampia scelta di piattini porta campione (chuck), inclusi chuck riscaldabili

Gli spin coater della serie SCI sono pensati per applicazioni di routine e sono disponibili in tre diverse versioni da 4.500, 9.000 e 13.500 rpm. La velocità è selezionabile tramite manopola analogica e viene riportata in rpm (giri al minuto) sul display integrato con lo strumento. Grazie allo speciale design dei piattini porta campione il fissaggio dei substrati si ottiene in maniera passiva (senza l’uso di fissaggi meccanici o pompe da vuoto) purché i campioni siano sufficientemente leggeri e si lavori a velocità di rotazioni elevate.

I modelli della serie SCV-10, SCE-150 e SCC-200 offrono invece un fissaggio dei campioni di tipo attivo tramite vuoto creato da un’apposita pompa. Il modello SCE-150 è dotato di un sistema di programmazione digitale delle rampe con velocità di rotazione selezionabili a piacere; il modello SCC-200 aggiunge a queste funzioni quella di una memoria non volatile per il salvataggio di 10 ricette (rampe) differenti.

Infine il modello Fr10KPA è uno spin coater dalle dimensioni generose e con pompa integrata che permette l’utilizzo anche di substrati più grandi ed è dotato di un sistema di chiusura di sicurezza controllato pneumaticamente. Questo modello permette inoltre il controllo remoto dello strumento tramite apposito software installabile su qualsiasi PC o laptop che consente, fra le altre cose, di programmare e salvare rampe con un arbitrario numero di step. Il modello può inoltre essere dotato di un sistema di riscaldamento del chuck durante la deposizione con range da temperatura ambiente a 200°C.

Gli spin coater sono strumenti ideali per la deposizione di film sottili e ultra-sottili a partire da soluzione liquida di vari materiali (fotoresist, polimeri, sol-gel, poliammidi, etc…) su un’ampia gamma di substrati differenti (wafer di silicio, vetrini, rame, plastiche, etc…) e ne permettono un controllo estremamente accurato e riproducibile dello spessore in un range che va dai pochi nanometri ai diversi micron.

Durante il processo di spin coating, il precursore liquido viene dispensato al centro di un substrato rotante a velocità controllata e, per effetto della forza centrifuga, esso si dispone in maniera omogenea su tutto il substrato andando a formare un film sottile di spessore variabile in funzione della velocità e tempo di rotazione impostati, viscosità della soluzione bagnabilità della superficie del substrato.

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