Fornace per cristalli

The 1 kW and 2 kW laser furnace for single crystal fabrication is based on a design and developed in close cooperation with the RIKEN Center for Emergent Matter Science under the leadership of Yoshio Kaneko. Both melting zones have 5 lasers each, which guarantees a high uniformity of power density in the melting zone range. The laser profile has been optimized to reduce thermal stress during the crystal growth process. In addition, the system includes an integrated temperature sensor for real-time temperature monitoring. Temperatures up to 3000 °C can be reached and thus also materials with a very high vapor pressure, a narrow temperature range of the melt, a high thermal conductivity coefficient and incongruent melts can be melted.

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La fornace infrarosso (IR) produce cristalli singoli in maniera molto semplice con il metodo a zona fluttuante con barre policristalline come precursori. Ideale per un gran numero di materiali, la fornace IR, come nella migliore tradizione di Quantum Design, combina design compatto, alta efficienza e facilità d'uso.

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GES Corporation produce questa fornace a 4 archi a metodo Czochralski per la crescita di numerosi cristalli di materiali conduttivi quali composti intermetallici e superconduttori ad alta temperatura critica.

Poiché tali materiali sono tipicamente soggetti a ossidazione, per evitarne il danneggiamento il sistema evacua la camera di lavoro fino a 10-6 Torr, raggiungibile in appena 1 ora, per poi riempirla con Argon.

I 4 archi a scarica consentono di scaldare i materiali fino a 3000°C.

La fornace TAC-5100J è semplice da utilizzare e permette il monitoraggio in tempo reale del processo di crescita per mezzo di una telecamera CCD e 4 finestre per l’osservazione diretta.

La fornace TAC-5100J consente la crescita di:

  • Composti metallici
  • Superconduttori ad alta temperatura critica

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